| 專利範圍 |
1.一種隔震支承平台，設置於一基面與一機台間，該隔震支承平台包括：
一下部構件，設置於該基面上，並具有複數底板及一與該等底板固接之下部框架；
一上部構件，用以承載該機台，並具有複數與該等底板相對應之頂板，及一與該等頂板固接之上部框架；及
複數隔震單元，各該隔震單元具有一形成於其中一底板鄰近該上部構件側之向上承載面、一形成於該底板對應之頂板鄰近該下部構件側且相對於該向上承載面之向下承載面，以及一可滾動地設置於該向下承載面與該向上承載面間之支承滾柱；各該向上承載面及各該向下承載面分別與各該對應之支承滾柱實質接觸，且能使各該支承滾柱在重力作用下恆往一重力位能較低之穩態位置滾動。
2.依據申請專利範圍第1項所述的隔震支承平台，其中，該等支承滾柱之中心軸線彼此平行。
3.依據申請專利範圍第1項所述的隔震支承平台，其中，各該向上承載面沿各該支承滾柱滾動方向之縱剖面呈V型。
4.依據申請專利範圍第3項所述的隔震支承平台，其中，各該向下承載面為一平面。
5.依據申請專利範圍第3項所述的隔震支承平台，其中，各該向下承載面沿各該支承滾柱滾動方向之縱剖面呈倒V型。
6.依據申請專利範圍第1項所述的隔震支承平台，其中，各該向下承載面沿各該支承滾柱滾動方向之縱剖面呈倒V型。
7.依據申請專利範圍第6項所述的隔震支承平台，其中，各該向上承載面為一平面。
8.依據申請專利範圍第1項所述的隔震支承平台，其中，各該隔震單元更具有兩由該向下承載面朝下突伸之上部限位凸緣，該兩上部限位凸緣之縱長方向平行於各該對應之支承滾柱滾動方向，且彼此間距大於各該對應之支承滾柱軸向長度。
9.依據申請專利範圍第1項所述的隔震支承平台，其中，各該隔震單元更具有兩由該向上承載面朝上突伸之下部限位凸緣，該兩下部限位凸緣之縱長方向平行於各該對應之支承滾柱滾動方向，且彼此間距大於各該對應之支承滾柱軸由向長度。
10.依據申請專利範圍第1項所述的隔震支承平台，更包括複數牽制連結件，各該牽制連結件連接該上部構件與該下部構件。
11.依據申請專利範圍第10項所述的隔震支承平台，其中，該等牽制連結件中至少一牽制連結件是彈簧。
12.依據申請專利範圍第10項所述的隔震支承平台，其中，該等牽制連結件中至少一牽制連結件是阻尼器。
13.一種隔震支承平台，設置於一基面與一機台間，該隔震支承平台包括：
一下部構件，設置於該基面上，具有複數底板，以及一與該等底板固接之下部框架；
一上部構件，用以承載該機台，並具有複數與該等底板相對應之頂板，以及一與該等頂板固接之上部框架；及
複數隔震單元，各該隔震單元具有一位於其中一底板與該底板相對應之頂板間之中介板、一形成於該底板相對於該中介板之向上承載面、一形成於該頂板相對於該中介板之向下承載面、一可滾動地設置於該向上承載面與該中介板間之下支承滾柱，以及一可滾動地設置於該向下承載面與該中介板間之上支承滾柱；
各該向上承載面及各該中介板分別與各該對應之下支承滾柱實質接觸，且能使各該下支承滾柱在重力作用下恆往一第一穩態位置滾動；而各該向下承載面及各該中介板分別與各該對應之上支承滾柱實質接觸，且能使各該上支承滾柱在重力作用下恆往一第二穩態位置滾動。
14.依據申請專利範圍第13項所述的隔震支承平台，其中，該等上支承滾柱之中心軸線彼此平行，而該等下支承滾柱之中心軸線彼此平行，且各該上支承滾柱之中心軸線與各該下支承滾柱之中心軸線相互垂直。
15.依據申請專利範圍第13項所述的隔震支承平台，其中，各該向上承載面沿各該下支承滾柱滾動方向之縱剖面呈V型。
16.依據申請專利範圍第13項所述的隔震支承平台，其中，各該向下承載面沿各該上支承滾柱滾動方向之縱剖面呈倒V型。
17.依據申請專利範圍第16項所述的隔震支承平台，其中，各該隔震單元更具有兩由該向下承載面朝下突伸之上部限位凸緣，該兩上部限位凸緣之縱長方向平行於各該對應之上支承滾柱滾動方向，且彼此間距大於各該對應之上支承滾柱軸向長度，以限定各該對應之上支承滾柱之滾動方向。
18.依據申請專利範圍第13項所述的隔震支承平台，其中，各該隔震單元更具有兩由該向上承載面朝上突伸之下部限位凸緣，該兩下部限位凸緣之縱長方向平行於各該對應之下支承滾柱滾動方向，且彼此間距大於各該對應之下支承滾柱軸向長度，以限定各該對應之下支承滾柱之滾動方向。
19.依據申請專利範圍第13項所述的隔震支承平台，其中，各該複數隔震單元更具有一形成於各該中介板相對於各該對應之向上承載面的向下支承面，以及一形成於各該中介板相對於各該對應之向下承載面的向上支承面；各該向下支承面與各該對應之下支承滾柱實質接觸，而各該向上支承面與各該對應之上支承滾柱實質接觸。
20.依據申請專利範圍第19項所述的隔震支承平台，其中，各該向下支承面沿各該下支承滾柱滾動方向之縱剖面呈倒V型。
21.依據申請專利範圍第19項所述的隔震支承平台，其中，各該向上支承面沿各該上支承滾柱滾動方向之縱剖面呈V型。
22.依據申請專利範圍第19項所述的隔震支承平台，其中，各該隔震單元更具有兩由該向下支承面朝下突伸之向下限位凸緣，該兩向下限位凸緣之縱長方向平行於各該對應之下支承滾柱滾動方向，且彼此間距大於各該對應之下支承滾柱軸向長度。
23.依據申請專利範圍第19項所述的隔震支承平台，其中，各該隔震單元更具有兩由該向上支承面朝上突伸之向上限位凸緣，該兩向上限位凸緣之縱長方向平行於各該對應之上支承滾柱滾動方向，且彼此間距大於各該對應之上支承滾柱軸向長度。
24.依據申請專利範圍第13項所述的隔震支承平台，更包括複數牽制連結件，各該牽制連結件連接該上部構件與該下部構件。
25.依據申請專利範圍第24項所述的隔震支承平台，其中，該等牽制連結件中至少一牽制連結件是彈簧。
26.依據申請專利範圍第24項所述的隔震支承平台，其中，該等牽制連結件中至少一牽制連結件是阻尼器。 |
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